Межотраслевая Интернет-система поиска и синтеза физических принципов действия преобразователей энергии

Стартовая страница

О системе

Технические требования

Синтез

Обучающий модуль

Справка по системе

Контакты
Искать:
  Расширенный   Формализованый   По связи разделов
 А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ы Э Ю Я 
Общий каталог эффектов

Пробой в полупроводниках
Резкое возрастание электрического тока при малом изменении приложенного к полупроводнику напряжения

Описание

Обратное напряжение, приложенное к диоду, обычно падает на выпрямляющем электрическом переходе диода. При больших для конкретного диода обратных напряжениях происходит пробой выпрямляющего электрического перехода. Пробой выпрямляющего электрического перехода (и соответственно пробой диода) – это явление резкого увеличения дифференциальной проводимости выпрямляющего перехода при достижении обратным напряжением критического для данного прибора значения. В зависимости от физических явлений, приводящих к пробою, различают лавинный, туннельный и тепловой пробои.
Лавинный пробой выпрямляющего электрического перехода – это пробой, вызванный лавинным размножением носителей заряда под действием сильного электрического поля. Лавинное размножение носителей заряда происходит в результате того, что они, проходя через выпрямляющий переход при обратном напряжении, приобретают в сильном электрическом поле на длине свободного пробега дополнительную энергию, достаточную для образования новых электронно-дырочных пар носителей заряда посредством ударной ионизации атомов полупроводника.
Процесс ударной ионизации характеризуют коэффициентами ударной ионизации αn и αp, которые в сильной степени зависят от напряжённости электрического поля. Поэтому коэффициенты ударной ионизации для электронов и дырок обычно считают равными.
Чтобы количественно охарактеризовать увеличение тока из-за процесса ударной ионизации в выпрямляющем переходе, вводят коэффициенты лавинного размножения Mn и Mp, показывающие, во сколько раз увеличивается ток данных носителей в результате ударной ионизации. Другими словами, коэффициент лавинного размножения – это отношение тока данных носителей заряда (например, электронов), выходящих из выпрямляющего перехода, к току тех же носителей, входящих в переход. В связи с предположением о равенстве коэффициентов ударной ионизации автоматически получается равенство и коэффициентов лавинного размножения:Mn = Mp = M.
Наконец, параметром диода, характеризующим явление пробоя его выпрямляющего перехода, является пробивное напряжение диода – напряжение, при котором происходит неограниченное возрастание тока (рис.1).
Формально при пробивном напряжении  . В производственных условиях пробивное напряжение диода определяют значением обратного напряжения, вызывающего пробой выпрямляющего перехода, при котором обратный ток достигает заданного значения.
Вольт-амперная характаристика диода при лавинном пробое для разных температур

Рис 1
При протекании обратного тока в полупроводниковом диоде в виде тепла выделяется мощность i*u , приводящая к разогреву диода.
Однако увеличение температуры перехода ведет к увеличению обратного тока и к усилению разогрева – и при недостаточном теплоотводе на статической ВАХ может появиться область отрицательного сопротивления и развиться тепловой пробой (рис.2).
Вольт-амперная характеристика

Рис 2
Реально время развития теплового пробоя велико – 0.01-100с. Тепловой пробой ограничивает рабочие температуры: – 70-800С для Ge, и 100-1300С для Si.
Если развивающийся ток пробоя не достаточно ограничен внешней цепью, то происходит тепловое разрушение диода (например, плавление полупроводника).


 

 

Ключевые слова

 

Разделы наук

 

Используется в научно-технических эффектах

Фототранзистор (Фототранзистор)
Органический фотоэлектрический преобразователь (Органический фотоэлектрический преобразователь)

 

Используется в областях техники и экономики

2Узлы, детали и элементы радиоэлектронной аппаратуры
2Молекулярная электроника
2Квантовая электроника
2Оптоэлектронная техника
2Полупроводниковые приборы и микроэлектроника
2Производство материалов для электроники и радиотехники
1Светотехника
1Бытовая техника
1Устройства для записи и воспроизведения сигналов и информации
1Телевизионная техника
1Электрические аппараты
1Электрические машины
1Энергетическое машиностроение
1Нетрадиционная энергетика
1Гелиоэнергетика

 

Используются в научно-технических эффектах совместно с данным эффектом естественнонаучные эффекты

2Резкое возрастание электрического тока при малом изменении приложенного к полупроводнику напряжения (Пробой в полупроводниках)
2Изменение проводимости полупроводника при наложении электрического поля, перпендикулярного его поверхности (Поля эффект)
1Испускание электронов проводящими твердыми и жидкими телами под действием внешнего электрического поля (Автоэлектронная эмиссия)
1Контактная разность потенциалов. (Контактная разность потенциалов.)
2Туннельный эффект в полупроводниках; туннельный диод (Туннельный эффект в полупроводниках; туннельный диод)
1Проникновение частицы сквозь потенциальный барьер, превышающий её энергию (Туннельный эффект)
1Нелинейная зависимость поляризации диэлектрика от электрического поля, проявляющаяся в слабых полях (Параэлектрический эффект)
1Нормальные колебания молекул (Собственные (свободные) гармонические колебания молекул)

 

Применение эффекта

Явление пробоя нашло применение в конструировании стабилитронов - полупроводниковых диодов, ВАХ которых имеет область резкой зависимости тока от напряжения на обратном участке характеристики.
ВАХ стабилитрона имеет вид, представленный на рис.1.
 Вольт-амперная характеристика (а) и конструкция корпуса (б) стабилитрона

Рис 1
При достижении напряжения на стабилитроне, называемого напряжением стабилизации Uстаб, ток через стабилитрон резко возрастает. Дифференциальное сопротивление Rдиф идеального стабилитрона на этом участке ВАХ стремится к 0, в реальных приборах величина Rдиф составляет значение: Rдиф ≈ 2÷50 Ом.
Основное назначение стабилитрона – стабилизация напряжения на нагрузке, при изменяющемся напряжении во внешней цепи. В связи с этим последовательно со стабилитроном включают нагрузочное сопротивление, демпфирующее изменение внешнего напряжения. Поэтому стабилитрон называют также опорным диодом. Напряжение стабилизации Uстаб зависит от физического механизма, обуславливающего резкую зависимость тока от напряжения. Различают два физических механизма, ответственных за такую зависимость тока от напряжения, – лавинный и туннельный пробой p-n перехода.
Для стабилитронов с туннельным механизмом пробоя напряжение стабилизации Uстаб невелико и составляет величину менее 5 вольт: Uстаб < 5 В. Для стабилитронов с лавинным механизмом пробоя напряжение стабилизации обычно имеет большие значения и составляет величину более 8 вольт: Uстаб > 8 В.
Основными характеристиками стабилитрона являются ток Iст и напряжение Uст стабилизации, дифференциальное напряжение стабилитрона rст и температурная зависимость этих параметров. На рис.2 приведены дифференциальные параметры различных стабилитронов.
 Дифференциальные параметры различных стабилитронов

Рис 2
Как следует из приведенных данных, значение дифференциального сопротивления для стабилитронов обратно пропорционально току стабилизации и составляет десятки Ом при рабочих параметрах токов. Точность значения напряжения стабилизации составляет десятки милливольт в стандартном температурном диапазоне.
Для изготовления стабилитронов используют полупроводники с высокой концентрацией примесей, поэтому напряженность электрического поля в p-n-переходе значительно выше, чем у обычных диодов. При небольших обратных напряжениях в p-n-переходе стабилитрона возникает сильное электрическое поле, вызывающее его электрический пробой. В этом режиме нагрев диода не носит лавинообразного характера, поэтому электрический пробой не переходит в тепловой. Пробойный режим не связан с инжекцией неосновных носителей, поэтому в стабилитроне инерционные явления, связанные с накоплением и рассасыванием носителей при переходе из области пробоя в область запирания и обратно практически отсутствуют. Это позволяет использовать стабилитроны в импульсных схемах в качестве ограничителей.

 

Реализации эффекта

p-n-переход – очень тонкий слой (0.1-100μm), и при существенным приложенном обратном напряжении (10-1000V) возможно развитие электрического разряда (искры, дуги) по поверхности полупроводника (на границе газ-полупроводник); пробой обычно стимулируется дефектами и загрязнениями на поверхности (рис.1).
 
 
Предотвращение пробоя спецобработкой
Рис 1

Предотвращение: спецобработка поверхностей (полировка, травление, пассивация), нанесение покрытия (компаунды), снятие фасок, специальные профили распределения примесей

В сильных полях (~104-106V/cm) носитель между двумя соударениями с решеткой набирает энергию, достаточную для ионизации атома в узле – т.е. при соударениях он генерирует новые электронно-дырочные пары.

Новые носители далее так же генерируют пары – возникает лавинное размножение носителей, а на VA-характеристике возникает быстрое (не ограниченное) возрастание тока – происходит лавинный пробой :

Лавинный пробой

Рис.1
Особенность лавинного пробоя – рост  с ростом температуры перехода (положительный ТКН) – тепловое движение "сбивает" разгон носителей.
Другая особенность – микроплазмы – развитие пробоя в локальных (микроскопических) областях концентрации поля вблизи дефектов.
При "подходе" к пробою – очень сильный шум обратного тока – усиление в "зажженных" микроплазмах велико, но число носителей не достаточно для самоподдерживающейся лавины (рис.2):
Гашение лавины

Рис.2

Оптический диапазон составляют электромагнитные волны, длины которых простираются от 1 мм до 1 нм. Оптический диапазон замечателен тем, что именно в нём наиболее отчётливо проявляется корпускулярно-волновой дуализм; При известной удельной мощности P плотность фотонного потока N определяется выражением
N[m-2c-1] = 5,035710127l [мкм] 7P [мкВт7m-2] (1)
Все светогенерационные эффекты относят либо к тепловому излучению, либо к одному из видов люминесценции. Спектр излучения нагретого тела определяется формулой Планка, которая для так называемого абсолютно чёрного тела имеет вид
f(l,T) = 2p7h7c27l-5[ exp(hc/(kTl)) - 1]-1, (2)
где h, c, k – известные универсальные константы; T – абсолютная температура.
При достаточно высоких температурах (>2500...3500 К) часть спектра теплового излучения приходится на видимую область. При этом, однако, всегда значителен длинноволновый "хвост". Люминесценция представляет собой излучение, характеризующееся тем, что его мощность превышает интенсивность теплового излучения при данной температуре ("холодное" свечение).
Известно, что электроны в атоме могут находиться в ряде дискретных энергетических состояний, при тепловом равновесии они занимают наинизшие уровни. В люминесцирующем веществе за счёт энергии того или иного внешнего воздействия часть электронов переходит на более высокие энергетические уровни E2. Возвращение этих электронов на равновесный уровень E1 сопровождается испусканием фотонов.
Физика люминесценции предопределяет две примечательные особенности процесса: узкий спектр излучения и возможность использования большого числа способов возбуждения. В оптоэлектронике главным образом используются электролюминесценция (пробой и инжекция p-n перехода в полупроводниках), а также фото- и катодолюминесценция (бомбардировка люминофора быстрыми электронами).
При распространении световых лучей важную роль играет дифракция, обусловленная волновой природой света и приводящая, в частности, к тому, что выделенный с помощью оптической системы параллельный пучок становится расходящимся, причём угол расходимости близок к fD = l/D , где D – апертура (диаметр луча света).
Дифракционный предел разрешающей способности оптических систем соизмерим с l, а плотность записи информации с помощью световых потоков не может превысить l-2.
В веществе с показателем преломления n скорость распространения светового луча становится c/n, а поскольку величина n зависит от длины волны (как правило, растёт с уменьшением l), то это обуславливает дисперсию.

Литература

1. Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы - М.: Высшая школа, 1987.

2. Хоровиц П., Хилл У. Искусство схемотехники. - М.: Мир. 1998.

Формализованное описание Показать

Стартовая страница  О системе  Технические требования  Синтез  Обучающий модуль  Справка по системе  Контакты 
Copyright © 2008 РГУ нефти и газа им. И.М. Губкина